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        • 1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng).png

        1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

        產(chǎn)品用途:產(chǎn)品專業(yè)性:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

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        • 技術(shù)參數(shù)
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          • 商品名稱: 1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
          • 商品編號: 1034429608717279232

          產(chǎn)品用途:產(chǎn)品專業(yè)性:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

          銷售熱線:15122725930 

           

          產(chǎn)品用途:

          產(chǎn)品專業(yè)性:

          PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

           

          產(chǎn)品組成:

          PECVD系統(tǒng)配置:

          1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐

          2.等離子射頻電源

          3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

          4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

           

          產(chǎn)品特點(diǎn):

          生長溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設(shè)備簡單。

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